Aplikasi sasaran titanium
Sekitar tahun 2000, Kesatuan Eropah mula memikirkan dan melaksanakan "Arahan RoHS" dan "Arahan WEEE", dan produk penyaduran elektrik memerlukan alternatif segera. Jadi kami mula menghubungi teknologi PVD untuk menggantikan penyaduran elektrik.
Sasaran titanium adalah bulat atau persegi yang diperbuat daripada titanium tulen atau aloi titanium. "Sasaran" ialah istilah di sini, terutamanya digunakan dalam bidang yang melibatkan penyejatan fizikal atau proses sputtering. Sasaran titanium berfungsi sebagai bahan sasaran untuk menyediakan bahan asas untuk salutan produk.
Warna sudu di bawah sasaran PVD yang berbeza
Teknologi Pemendapan Wap Fizikal (PVD) merujuk kepada penggunaan kaedah fizikal di bawah keadaan vakum untuk mengebom permukaan sumber bahan (pepejal atau cecair) untuk mengewap menjadi atom atau molekul gas, atau sebahagiannya terion menjadi ion, dan melalui bahan yang rendah. proses gas tekanan (atau plasma), teknologi untuk mendepositkan filem nipis dengan fungsi khas tertentu pada permukaan substrat. Pemendapan wap fizikal adalah salah satu teknologi rawatan permukaan utama. Pada masa itu sasaran yang paling terdedah ialah sasaran aluminium, sasaran titanium, sasaran emas dan lain-lain. Masa tu baru saya tahu bahan sasaran itu sangat mahal.
Hari ini kita terutamanya membincangkan sasaran titanium, yang termasuk titanium tulen dan aloi titanium. Sasaran titanium mempunyai ciri-ciri cemerlang titanium itu sendiri, seperti rintangan kakisan yang sangat baik (rintangan asid dan alkali), kekuatan tinggi dan ketumpatan rendah, serta biokompatibiliti yang baik, rintangan suhu tinggi, dan lain-lain. Sasaran akan "dibombardir" semasa PVD proses untuk menghasilkan atom titanium, jadi kualiti permukaannya mempunyai kesan yang besar terhadap kualiti filem titanium yang dimendapkan. Oleh itu, bahan sasaran biasanya perlu dikisar halus untuk mencapai permukaan yang cukup rata dan bebas daripada retakan mikro dan kekotoran. Dengan cara ini, kadar sputtering yang tinggi dan ketulenan tinggi filem dapat dipastikan semasa digunakan.
Sasaran pusingan titanium ketulenan tinggi
Proses pembuatan sasaran titanium
Pemilihan span titanium (span titanium ketulenan tinggi 4N, 4N5, 5N)---peleburan vakum (VAR) (tiga leburan)---menempa---menggelek---pemesinan kasar{{ 8}}rawatan haba---penamat- --Pemeriksaan pihak ketiga---Pemeriksaan kualiti---Pembungkusan (pembungkusan vakum)---Penghantaran
Kawasan aplikasi sasaran titanium
1. Industri semikonduktor: Titanium dan campurannya (seperti titanium nitrida dan titanium oksida) banyak kali digunakan untuk membuat lapisan antara muka, filem pengikat, lapisan halangan dan sebagainya. dalam gear semikonduktor. Ia boleh digunakan dengan baik untuk menyimpan filem logam pada wafer silikon dan digunakan untuk antara muka komponen elektronik lain ke litar bingkai.
2. Industri yang meliputi: Sasaran titanium digunakan dalam pernyataan wasap sebenar (PVD) dan keterangan wasap bahan (CVD) untuk menyampaikan salutan yang produktif dan kukuh. Salutan ini digunakan dalam banyak bidang, menggabungkan kaca kawalan berkuasa matahari dalam struktur, salutan keras selamat haus untuk bahagian kereta, dan salutan selamat penggunaan untuk peralatan tenaga fosil.
3. Industri optik: Dalam perniagaan optik, sasaran titanium digunakan untuk membuat filem dengan ciri-ciri jaminan pintar, haus dan haus dan pengoksidaan. Beberapa aplikasi eksplisit menggabungkan salutan cermin mata, komponen titik fokus kamera, teleskop, kanta pembesar dan instrumen ketepatan lain.
4. Alat kapasiti: Dalam alat kapasiti maklumat, contohnya, bulatan keras, lapisan menarik plat keras biasanya menggunakan filem titanium nipis, yang mempunyai kemantapan panas yang hebat dan rintangan haus.
5. Industri alat klinikal: Dalam bidang pergigian, inovasi PVD boleh digunakan untuk menyimpan filem titanium pada sisipan pergigian untuk menaik taraf pegangan dengan tulang dan seterusnya membangunkan biokompatibiliti.
